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行業新聞

AMOLED與LCD都需要的核心工藝設備曝光機,有幾個了解這麽多……

作者: 來源: 日期:2020/10/20 14:21:40 人氣:176
  曝光,簡單點說,就是通過光照射光阻,使其感光。然後通過顯影工藝將曝光完成後的圖形處理,以將圖形清晰的顯現出來的過程。而整個光刻工藝,則是將圖形從光罩上成象到光阻上的過程。
曝光機的原理
  談到曝光,那必不可少就要談到曝光機。目前大部分曝光設備采用的是非接觸式曝光。原理是紫外光經過MASK對塗有光刻膠的ITO玻璃曝光,曝光後的玻璃經顯影產生與mask板相同的圖案。
  為了在不改變曝光係統的前提下提高NA而改善R值, 可采取的方法有:
  (1) 改變接近式曝光機中鏡頭和光刻膠的介質, 將其從空氣換成其他材料。通過該方式改變NA值可以是的193 nm技術在滿足45 nm工藝節點製程要求的同時, 進一步提高到28 nm製程。
  (2)如果將接近式配合二重曝光相想結合, 可以進一步將製程節點縮小到22 nm, 且工藝節點縮小到10 nm。
  顯示製造中的曝光技術
  在TFT-LCD的生產中, 根據製作原件的不同其采取的曝光方式也不相同:
  • CF: 主要采取接近式曝光, 其掩模板與基板間距為10 μm左右。因為光通過掩模板後會有幹涉效應, 則此種方法形成的圖案解析度不高。而AMOLED,目前LGD的WOLED會采用CF。
  • TFT曝光時, 光通過透鏡或麵鏡將掩模板圖案投影到光刻膠上的同時, 其基板主要采取步進式或掃描式移動, 以完成整版曝光。到AMOLED的上相差不大,隻是LTPS會多幾道光罩而已。
  而現在用於Display生產的主流曝光技術為:
  • 透鏡掃描方式是一種Step & Scan的方式, 采用該方式的的曝光機有Nikon FX 係列, 其解析度為L/S 3.5 um.
  • 反射鏡投影曝光機則主要由Canon FX 采用。其TFT使用機器的解析度L/S 為3.5 um, 而CF用的機器則有4 um和6 um兩種。
  • Proximity式機器主要為NSK和DECO采用。其解析度為6 – 8 um, 主要用於CF的製作。
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